| 公司真空镀膜工转正应知理论试卷 |
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投稿人:rxr1093 来源:本站原创 时间:2021-4-20 付费充值 以稿换稿  |
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内容预览：
公司真空镀膜工转正应知理论试卷 一、判断题 1、MgF2膜最佳基底温度是250度。（ ） 2、真空镀膜机的工作相对温度不大于65%。（ ） 3、ZnS-MgF2沉积速度过快，是膜层颗粒粗。（ ） 4、金属膜的透过率与光的入射方向无关。（ ） 5、光线由光密介质折射入光疏介质，折射角大于入射角。（ ） 二、填空题 1、被镀零件离蒸发源的距离越 越 。 2、经常用来镀到金属反光膜的材料有&nbs……
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